A study of the ion-beam process technology
Αποθηκεύτηκε σε:
| Κύριος συγγραφέας: | |
|---|---|
| Μορφή: | Βιβλίο |
| Γλώσσα: | Undetermined |
| Έκδοση: |
Japan
1990
|
| Θέματα: | |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|
| Thư viện lưu trữ: | Trung tâm Học liệu Trường Đại học Cần Thơ |
|---|
| LEADER | 00471nam a2200169Ia 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | CTU_98802 | ||
| 008 | 210402s9999 xx 000 0 und d | ||
| 082 | |a 338.4 | ||
| 082 | |b K16/1990 | ||
| 100 | |a Kanayama, Toshihiko | ||
| 245 | 2 | |a A study of the ion-beam process technology | |
| 245 | 0 | |c Toshihiko Kanayama | |
| 260 | |a Japan | ||
| 260 | |c 1990 | ||
| 650 | |a Semiconductor,Technology | ||
| 904 | |i Tuyến | ||
| 980 | |a Trung tâm Học liệu Trường Đại học Cần Thơ | ||