00998nam a2200325 4500 DLU090095300 ##20091201 DLU eng eng us Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) / Yu-Hsu Chang ... [et al.]. Inorganic compounds Reaction mechanism Tantalum complexes Thin films Transition element compounds Chang, Pei-Ju. Chang, Yu-Hsu. Chiu, Hsin-Tien. Wu, Jin-Bao. Journal of Materials Chemistry Vol. 13, no. 2 (2003), p. 365-369 Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt DLU True Trương Bảo Trâm Anh G A BB Thư viện Trường Đại học Đà Lạt