01253nam a2200385 4500 DLU090095369 ##20091201 DLU eng eng us Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films / A. M. Wrobel ... [et al.]. Chemical reactivity Inorganic compounds Kinetics Nitrides Plasma chemistry Reaction mechanism Thin films Aoki, T. Baszczyk, I. Hatanaka, Y. Klemberg-Sapieha, J. E. Tracz, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, A. Wrobel, A. M. Journal of Materials Chemistry Vol. 13, no. 4 (2003), p. 731-737 Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt DLU True Trương Bảo Trâm Anh G A BB Thư viện Trường Đại học Đà Lạt