APA Цитирование

French, R. H., & Tran, H. V. Immersion lithography: Photomask and wafer-level materials.

Chicago-стиль цитирования

French, Roger H., và Hoang V. Tran. Immersion Lithography: Photomask and Wafer-level Materials.

MLA-цитирование

French, Roger H., và Hoang V. Tran. Immersion Lithography: Photomask and Wafer-level Materials.

Предупреждение: эти цитированмия не могут быть всегда правильны на 100%.