Long, P. T. Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes: Lois de similitude. Université De Grenobl.
Trích dẫn kiểu ChicagoLong, Phan Thanh. Étude Fondamentale Des Mécanismes Physico-chimiques De Gravure Plasma Basés Sur Les Effets Stériques Et De Diffusion. Comportements Prévisionnels De La Gravure Des éléments De La Colonne IV Et Des Composés III-V Par Les Halogènes: Lois De Similitude. Université De Grenobl.
Trích dẫn MLALong, Phan Thanh. Étude Fondamentale Des Mécanismes Physico-chimiques De Gravure Plasma Basés Sur Les Effets Stériques Et De Diffusion. Comportements Prévisionnels De La Gravure Des éléments De La Colonne IV Et Des Composés III-V Par Les Halogènes: Lois De Similitude. Université De Grenobl.