Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude
1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ...
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| Foilsithe: |
Université De Grenobl
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| Rochtain Ar Líne: | https://dlib.udn.vn/module/chi-tiet-sach?RecordID=2800 |
| Clibeanna: |
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| Thư viện lưu trữ: | Trung tâm Công nghệ thông tin và Học liệu số, Đại học Đà Nẵng |
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https:--dlib.udn.vn-module-chi-tiet-sach?RecordID=28002025-04-21T00:00:00ZPhan Thanh LongÉtude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitudeNghiên cứu cơ bản các cơ chế lý-Hóa của quá trình ăn mòn bằng plasma dựa trên các hiệu ứng không gian và khuếch tán. Các hành vi dự đoán của quá trình ăn mòn các chất bán dẫn cột IV và hợp chất III-V bằng halogensUniversité De Grenobl1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ...University of Science and Technology - The University of Dananghttps://dlib.udn.vn/module/chi-tiet-sach?RecordID=2800 |
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Trung tâm Công nghệ thông tin và Học liệu số, Đại học Đà Nẵng |
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