Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude

1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ...

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Phan Thanh Long
יצא לאור: Université De Grenobl
גישה מקוונת:https://dlib.udn.vn/module/chi-tiet-sach?RecordID=2800
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
Thư viện lưu trữ: Trung tâm Công nghệ thông tin và Học liệu số, Đại học Đà Nẵng