Gil, T., Kim, H., & Kim, Y. Characteristics of Ni/SiC schottky diodes grown by ICP-CVD.
Trích dẫn kiểu ChicagoGil, Tae-Hyun., Han-Soo Kim, và Yong-Sang Kim. Characteristics of Ni/SiC Schottky Diodes Grown By ICP-CVD.
Trích dẫn MLAGil, Tae-Hyun., Han-Soo Kim, và Yong-Sang Kim. Characteristics of Ni/SiC Schottky Diodes Grown By ICP-CVD.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.