Non leaky conductor-backed cpw based on thin film polyimide on CMOS-grade silicon for ku-band application /
Đã lưu trong:
| Tác giả khác: | , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Bài viết |
| Ngôn ngữ: | English |
| Những chủ đề: | |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
Là người đầu tiên ghi lời nhận xét!