Costner, E. A., Jen, W., Lin, M. W., & Willson, C. G. Nanoimprint lithography materials development for semiconductor device fabrication.
Citación estilo ChicagoCostner, Elizabeth A., Wei-Lun Jen, Michael W. Lin, và C. Grant Willson. Nanoimprint Lithography Materials Development for Semiconductor Device Fabrication.
Cita MLACostner, Elizabeth A., Wei-Lun Jen, Michael W. Lin, và C. Grant Willson. Nanoimprint Lithography Materials Development for Semiconductor Device Fabrication.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.