Nanoimprint lithography materials development for semiconductor device fabrication /

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Autres auteurs:	Costner, Elizabeth A., Jen, Wei-Lun., Lin, Michael W., Willson, C. Grant.
Format:	Article
Langue:	English
Sujets:	Dual damascene Imprint template Nanofabrication Next-generation lithography
Tags:	Ajouter un tag Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

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