L. Truong., & A.Stesmans. Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro.
Trích dẫn kiểu ChicagoL. Truong., và A.Stesmans. Mật độ Trạng Thái Bề Mặt (Dit) Tại Phân Biên Si/HfO2 Trước Và Sau Khi Thụ động Hóa Trong Môi Trường Khí Hydro.
Trích dẫn MLAL. Truong., và A.Stesmans. Mật độ Trạng Thái Bề Mặt (Dit) Tại Phân Biên Si/HfO2 Trước Và Sau Khi Thụ động Hóa Trong Môi Trường Khí Hydro.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.