L. Truong., & A.Stesmans. Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro.
Citación estilo ChicagoL. Truong., và A.Stesmans. Mật độ Trạng Thái Bề Mặt (Dit) Tại Phân Biên Si/HfO2 Trước Và Sau Khi Thụ động Hóa Trong Môi Trường Khí Hydro.
Cita MLAL. Truong., và A.Stesmans. Mật độ Trạng Thái Bề Mặt (Dit) Tại Phân Biên Si/HfO2 Trước Và Sau Khi Thụ động Hóa Trong Môi Trường Khí Hydro.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.