Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude
1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ...
שמור ב:
| מחבר ראשי: | Phan Thanh Long |
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| יצא לאור: |
Université De Grenobl
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| גישה מקוונת: | https://dlib.udn.vn/module/chi-tiet-sach?RecordID=2800 |
| תגים: |
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| Thư viện lưu trữ: | Trung tâm Công nghệ thông tin và Học liệu số, Đại học Đà Nẵng |
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