Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:Vietnamese
Được phát hành: 2023
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
id oai:scholar.dlu.edu.vn:DLU123456789-133398
record_format dspace
spelling oai:scholar.dlu.edu.vn:DLU123456789-1333982024-01-04T23:53:47Z Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2 Bùi, Văn Khoản Đoàn, Thanh Hòa Tạp chí khoa học và công nghệ 2023-10-03T02:03:00Z 2023-10-03T02:03:00Z 2020 Article https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498 https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398 vi Tạp chí khoa học và công nghệ - Trường đại học sư phạm kỹ thuật Hưng Yên - 2020 - no.26 - tr.14-20 - ISSN.2354-0575 application/pdf
institution Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
collection Thư viện số
language Vietnamese
topic Tạp chí khoa học và công nghệ
spellingShingle Tạp chí khoa học và công nghệ
Bùi, Văn Khoản
Đoàn, Thanh Hòa
Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
format Article
author Bùi, Văn Khoản
Đoàn, Thanh Hòa
author_facet Bùi, Văn Khoản
Đoàn, Thanh Hòa
author_sort Bùi, Văn Khoản
title Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
title_short Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
title_full Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
title_fullStr Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
title_full_unstemmed Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
title_sort tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ al2o3-40tio2
publishDate 2023
url https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
_version_ 1789085079959502848