Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Formato: Artículo
Lenguaje:Vietnamese
Publicado: 2023
Materias:
Acceso en línea:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt