Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Shranjeno v:
Bibliografske podrobnosti
Những tác giả chính: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Format: Bài viết
Jezik:Vietnamese
Izdano: 2023
Teme:
Online dostop:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Oznake: Označite
Brez oznak, prvi označite!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt