Ảnh hưởng của nhiệt độ và thời gian sấy đến lớp vật liệu cản quang Su-8 sử dụng làm mặt nạ cứng trong kỹ thuật quan học khắc sâu

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Bùi, Tuấn Anh
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:Vietnamese
Được phát hành: 2023
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=306786
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/134324
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt