Khống chế sự hình thành tăng trưởng dạng đảo của Germani trên đế silic bằng phương pháp epitaxy chùm phân tử
Đã lưu trong:
Príomhúdar: | Lương, Thị Kim Phượng |
---|---|
Formáid: | Bài viết |
Teanga: | Vietnamese |
Foilsithe: |
2024
|
Ábhair: | |
Rochtain Ar Líne: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215540 |
Clibeanna: |
Cuir Clib Leis
Gan Chlibeanna, Bí ar an gcéad duine leis an taifead seo a chlibeáil!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Míreanna Comhchosúla
-
Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
le: Lương, Thị Kim Phượng
Foilsithe: (2024) -
Nghiên cứu tính chất điện của màng Ge pha tạp điện tử từ nguồn rắn GaP và Sb bằng phương pháp Epitaxy chùm phân tử
le: Lương, Thị Kim Phượng
Foilsithe: (2023) -
KHẢO SÁT SỰ PHÁT TRIỂN CỦA MÀNG Ge TRÊN ĐẾ GaAs(100) BẰNG PHƯƠNG PHÁP EPITAXY CHÙM PHÂN TỬ
le: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Foilsithe: (2025) -
STUDY OF ELECTRICAL PROPERTIES OF ELECTRON DOPED Ge FILM USING GaP AND Sb SOLID SOURCES BY MOLECULAR BEAM EPITAXY METHOD
le: Lương, Thị Kim Phượng
Foilsithe: (2023) -
STUDY OF ELECTRICAL PROPERTIES OF ELECTRON DOPED Ge FILM USING GaP AND Sb SOLID SOURCES BY MOLECULAR BEAM EPITAXY METHOD
le: Lương, Thị Kim Phượng
Foilsithe: (2024)