Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
Định dạng: | Bài viết |
Ngôn ngữ: | Vietnamese |
Được phát hành: |
2024
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Silicon germanium :
Bỡi: Singh, Raminderpal
Được phát hành: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
Bỡi: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Được phát hành: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
Bỡi: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
Được phát hành: (2023) -
Màng Silic xốp nhiều lớp pha tạp ECBI sử dụng trong các linh kiện quang tử
Bỡi: Bùi Huy, ...
Được phát hành: (2015) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
Bỡi: Phạm, Lê Nhân, et al.
Được phát hành: (2021)