Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
Shranjeno v:
Những tác giả chính: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
Format: | Bài viết |
Jezik: | Vietnamese |
Izdano: |
2024
|
Teme: | |
Online dostop: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Podobne knjige/članki
-
Silicon germanium :
od: Singh, Raminderpal
Izdano: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
od: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Izdano: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
od: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
Izdano: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
od: Phạm, Lê Nhân, et al.
Izdano: (2021) -
Quá trình khuếch tán
od: Triệu, Nguyên Hùng
Izdano: (2008)