Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
Guardat en:
Autors principals: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
Format: | Article |
Idioma: | Vietnamese |
Publicat: |
2024
|
Matèries: | |
Accés en línia: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
Etiquetes: |
Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Ítems similars
-
Silicon germanium :
per: Singh, Raminderpal
Publicat: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
per: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Publicat: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
per: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
Publicat: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
per: Phạm, Lê Nhân, et al.
Publicat: (2021) -
Quá trình khuếch tán
per: Triệu, Nguyên Hùng
Publicat: (2008)