Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
Gorde:
Egile Nagusiak: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
Formatua: | Artikulua |
Hizkuntza: | Vietnamese |
Argitaratua: |
2024
|
Gaiak: | |
Sarrera elektronikoa: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
Etiketak: |
Etiketa erantsi
Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Antzeko izenburuak
-
Silicon germanium :
nork: Singh, Raminderpal
Argitaratua: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
nork: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Argitaratua: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
nork: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
Argitaratua: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
nork: Phạm, Lê Nhân, et al.
Argitaratua: (2021) -
Quá trình khuếch tán
nork: Triệu, Nguyên Hùng
Argitaratua: (2008)