Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
Formáid: | Bài viết |
Teanga: | Vietnamese |
Foilsithe: |
2024
|
Ábhair: | |
Rochtain Ar Líne: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
Clibeanna: |
Cuir Clib Leis
Gan Chlibeanna, Bí ar an gcéad duine leis an taifead seo a chlibeáil!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Míreanna Comhchosúla
-
Silicon germanium :
le: Singh, Raminderpal
Foilsithe: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
le: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Foilsithe: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
le: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
Foilsithe: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
le: Phạm, Lê Nhân, et al.
Foilsithe: (2021) -
Quá trình khuếch tán
le: Triệu, Nguyên Hùng
Foilsithe: (2008)