Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
שמור ב:
Những tác giả chính: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
פורמט: | Bài viết |
שפה: | Vietnamese |
יצא לאור: |
2024
|
נושאים: | |
גישה מקוונת: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
פריטים דומים
-
Silicon germanium :
מאת: Singh, Raminderpal
יצא לאור: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
מאת: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
יצא לאור: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
מאת: Nguyễn, Ngọc Anh, et al.
יצא לאור: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
מאת: Phạm, Lê Nhân, et al.
יצא לאור: (2021) -
Quá trình khuếch tán
מאת: Triệu, Nguyên Hùng
יצא לאור: (2008)