Hạn chế sự liên khuếch tán giữa màng Germanium và đế silic bằng màng đa lớp Ge/Carbon ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử tích hợp
保存先:
主要な著者: | Lương, Thị Kim Phượng, Tịnh, Trúc Ly |
---|---|
フォーマット: | 論文 |
言語: | Vietnamese |
出版事項: |
2024
|
主題: | |
オンライン・アクセス: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215627 |
タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
類似資料
-
Silicon germanium :
著者:: Singh, Raminderpal
出版事項: (2004) -
Khống chế hiệu ứng khuếch tán ngoài của nguyên tố pha tạp bằng hàng rào khuếch tán HFO2 cho màng GE pha tạp điện tử nồng độ cao tăng trưởng trên đến Si(100)
著者:: Lương, Thị Kim Phượng, 等
出版事項: (2024) -
Nghiên cứu khả năng khuếch tán khí qua màng phế nang mao mạch (DLCO) ở người lao động tiếp xúc bụi silic
著者:: Nguyễn, Ngọc Anh, 等
出版事項: (2023) -
Energetic degeneracy and electronic structures of germanium trimers doped with titanium
著者:: Phạm, Lê Nhân, 等
出版事項: (2021) -
Quá trình khuếch tán
著者:: Triệu, Nguyên Hùng
出版事項: (2008)