Nghiên cứu quan hệ chế độ làm sạch và độ bền bám các màng bảo vệ

Using the Strickness - Instrument QH3 and on physical Base of Clining in low Vakuum to study the Solid - Strickness of the thin Films MgF2; SiO with optical Thickness n1. d=λ/4; 3λ/4 ; 5λ/4;... on Surfaces of optical Elements.

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Trần, Đình Tường, Nguyễn, Anh Tuấn
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:Vietnamese
Được phát hành: Hà Nội 2013
Truy cập trực tuyến:http://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/34012
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
Miêu tả
Tóm tắt:Using the Strickness - Instrument QH3 and on physical Base of Clining in low Vakuum to study the Solid - Strickness of the thin Films MgF2; SiO with optical Thickness n1. d=λ/4; 3λ/4 ; 5λ/4;... on Surfaces of optical Elements.