Pular para o conteúdo
Logo
  • A sua conta
  • Sair
  • Entrar
  • Idioma
    • English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
Avançada
  • Chemical vapour deposition of...
  • Itens
  • Citar
  • Enviar por e-mail
  • Imprimir
  • Exportar registro
    • Exportar para RefWorks
    • Exportar para EndNoteWeb
    • Exportar para EndNote
    • Exportar para MARC
    • Exportar para MARCXML
    • Exportar para RDF
    • Exportar para BibTeX
    • Exportar para RIS
  • Salvar na lista
Chemical vapour deposition of group Vb metal phosphide thin films /
Código QR (código de barras bidimensional)

Chemical vapour deposition of group Vb metal phosphide thin films /

Na minha lista:
Detalhes bibliográficos
Outros Autores: Apostolico, L., Blackman, C. S., Carmalt, C. J., Molloy, K. C., O'Neill, S. A., Parkin, I. P.
Formato: Atigo
Idioma:English
Assuntos:
Crystallinity
Inorganic compounds
Temperature effect
Thin films
Transition element compounds
Vanadium chlorides
Tags: Adicionar Tag
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
  • Itens
  • Descrição
  • Comentários
  • Registros relacionados
  • Registro fonte

Detalhes do Exemplar

Registros relacionados

  • Preparation of TiO2 thin films on polystyrene by liquid phase deposition /
    por: Dutschke, Anke.
  • Atmospheric pressure chemical vapour deposition of Cr2-xTixO3(CTO) thin films (<=3 mmm) on to gas sensing substrates /
    por: Shaw, Graham A.
  • Atmospheric pressure chemical vapour deposition of thin films of Nb2O5 on glass /
  • Deposition of CdSe thin films using a novel single-source precursor; [MeCd&(SePiPr2)2N;]2 /
  • Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Opções de Busca

  • Histórico de buscas
  • Busca Avançada

Encontrar Mais

  • Navegar o acervo
  • Navegar por ordem alfabética
  • Explorar canais
  • Bibliografia Recomendada
  • Novos itens

Precisa de ajuda?

  • Dicas de Busca
  • Serviço de Referência
  • Perguntas Frequentes

@2022-2024 - Liên Chi hội Thư viện Đại học phía Nam
Liên hệ tích hợp dữ liệu: Phan Ngọc Đông - E-mail: dongpn@dlu.edu.vn

Carregando...