Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Otros Autores: Chang, Pei-Ju., Chang, Yu-Hsu., Chiu, Hsin-Tien., Wu, Jin-Bao.
Formato: Artículo
Lenguaje:English
Materias:
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt