Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Chang, Pei-Ju., Chang, Yu-Hsu., Chiu, Hsin-Tien., Wu, Jin-Bao.
Format: Artykuł
Język:English
Hasła przedmiotowe:
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt