Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Hoofdauteurs: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Formaat: Artikel
Taal:Vietnamese
Gepubliceerd in: 2023
Onderwerpen:
Online toegang:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Tags: Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt