Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autors principals: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Format: Article
Idioma:Vietnamese
Publicat: 2023
Matèries:
Accés en línia:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt