Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Médium: Článek
Jazyk:Vietnamese
Vydáno: 2023
Témata:
On-line přístup:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt