Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριοι συγγραφείς: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Μορφή: Άρθρο
Γλώσσα:Vietnamese
Έκδοση: 2023
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Ετικέτες: Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt