Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2
Gardado en:
Những tác giả chính: | , |
---|---|
Formato: | Artigo |
Idioma: | Vietnamese |
Publicado: |
2023
|
Những chủ đề: | |
Acceso en liña: | https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498 https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398 |
Các nhãn: |
Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|