Tối ưu hóa các thông số quá trình phun plasma để nâng cao độ bám dính của lớp phủ AL2O3-40TiO2

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главные авторы: Bùi, Văn Khoản, Đoàn, Thanh Hòa
Формат: Статья
Язык:Vietnamese
Опубликовано: 2023
Предметы:
Online-ссылка:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=307498
https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133398
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt