Khống chế sự hình thành tăng trưởng dạng đảo của Germani trên đế silic bằng phương pháp epitaxy chùm phân tử
Saved in:
Main Author: | Lương, Thị Kim Phượng |
---|---|
Format: | Article |
Language: | Vietnamese |
Published: |
2024
|
Subjects: | |
Online Access: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215540 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institutions: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Similar Items
-
Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
by: Lương, Thị Kim Phượng
Published: (2024) -
Nghiên cứu tính chất điện của màng Ge pha tạp điện tử từ nguồn rắn GaP và Sb bằng phương pháp Epitaxy chùm phân tử
by: Lương, Thị Kim Phượng
Published: (2023) -
KHẢO SÁT SỰ PHÁT TRIỂN CỦA MÀNG Ge TRÊN ĐẾ GaAs(100) BẰNG PHƯƠNG PHÁP EPITAXY CHÙM PHÂN TỬ
by: Lương, Thị Kim Phượng, et al.
Published: (2025) -
STUDY OF ELECTRICAL PROPERTIES OF ELECTRON DOPED Ge FILM USING GaP AND Sb SOLID SOURCES BY MOLECULAR BEAM EPITAXY METHOD
by: Lương, Thị Kim Phượng
Published: (2023) -
STUDY OF ELECTRICAL PROPERTIES OF ELECTRON DOPED Ge FILM USING GaP AND Sb SOLID SOURCES BY MOLECULAR BEAM EPITAXY METHOD
by: Lương, Thị Kim Phượng
Published: (2024)