Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại?
Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn......
Đã lưu trong:
| Tác giả chính: | |
|---|---|
| Định dạng: | Bài viết |
| Ngôn ngữ: | Vietnamese |
| Được phát hành: |
2025
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/257133 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
| Tóm tắt: | Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn... |
|---|