Chế tạo và khảo sát các đặc trưng cấu trúc, điện, quang của màng a-Si:H pha tạp bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa tăng cường Plasma (PECVD) : Luận văn Thạc sĩ Vật lý chuyên ngành Vật lý Kỹ thuật
Đề tài nghiên cứu về vật liệu bán dẫn silic, và Si:H, tìm hiểu về tính chất quang và tính chất điện của màng Si:H, tìm hiểu phương pháp lằng đọng hóa học CVD và PECVD. Nghiên cứu cách chế tạo và đo đạc xác định các tính chất quang điện, đ...
Đã lưu trong:
Tác giả chính: | |
---|---|
Định dạng: | Sách |
Ngôn ngữ: | Undetermined |
Được phát hành: |
Cần Thơ
Trường Đại học Cần Thơ
2011
|
Những chủ đề: | |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Trung tâm Học liệu Trường Đại học Cần Thơ |
---|
Tóm tắt: | Đề tài nghiên cứu về vật liệu bán dẫn silic, và Si:H, tìm hiểu về tính chất quang và tính chất điện của màng Si:H, tìm hiểu phương pháp lằng đọng hóa học CVD và PECVD. Nghiên cứu cách chế tạo và đo đạc xác định các tính chất quang điện, điện và cấu trúc của màng Si:H và Si:H pha tạp P. Đánh giá các điều kiện chế tạo và tìm ra điều kiện chế tạo mẫu tối ưu. |
---|