Radiochemical neutron activation analysis for certification of ion-implanted phosphorus in silicon /
Сохранить в:
| Другие авторы: | Guthrie, William F., Lu, John., Paul, Rick L., Simons, David S. |
|---|---|
| Формат: | Статья |
| Язык: | English |
| Предметы: | |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
Схожие документы
-
Ion implantation science and technology
по: Ziegler, J. F.
Опубликовано: (1984) -
The Characteristic Study on the Extraction of a Co Ion in the Metal Ion Implanter
по: Trịnh, Thị Tú Anh
Опубликовано: (2023) -
CU+ ION EXTRACTION FROM A MODIFIED BERNAS ION SOURCE IN A METAL-ION IMPLANTER
по: Trịnh, Thị Tú Anh
Опубликовано: (2023) - Development of an internal monostandard instrumental neutron activation analysis method based on in situ detection efficiency for analysis of large and nonstandard geometry samples /
-
Prompt gamma neutron activation analysis
по: Zeev, B Alfassi, et al.
Опубликовано: (2014)