Immersion lithography : Photomask and wafer-level materials /
Đã lưu trong:
| Tác giả chính: | |
|---|---|
| Tác giả khác: | |
| Định dạng: | Bài viết |
| Ngôn ngữ: | English |
| Những chủ đề: | |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
| LEADER | 00862nam a2200301 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | DLU090097893 | ||
| 005 | ##20091201 | ||
| 040 | # | # | |a DLU |b eng |
| 041 | # | # | |a eng |
| 044 | # | # | |a us |
| 100 | # | # | |a French, Roger H. |
| 245 | # | # | |a Immersion lithography : Photomask and wafer-level materials / |c Roger H. French, Hoang V. Tran. |
| 653 | # | # | |a Double patterning |
| 653 | # | # | |a High-index fluid |
| 653 | # | # | |a Pellicle |
| 653 | # | # | |a Phase shift |
| 653 | # | # | |a Photoresist |
| 700 | # | # | |a Tran, Hoang V. |
| 773 | # | # | |t Annual Review of Materials Research |g Vol. 39 (2009), p. 93-126 |
| 920 | # | # | |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
| 994 | # | # | |a DLU |
| 900 | # | # | |a True |
| 911 | # | # | |a Trương Bảo Trâm Anh |
| 925 | # | # | |a G |
| 926 | # | # | |a A |
| 927 | # | # | |a BB |
| 980 | # | # | |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |