Atomic Layer Deposition of Ultrathin Copper Metal Films from a Liquid Copper(I) Amidinate Precursor

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Zhengwen Li, Antti Rahtu, Roy G. Gordon
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:Vietnamese
Được phát hành: 2015
Truy cập trực tuyến:http://thuvien.ued.udn.vn/handle/TVDHSPDN_123456789/10771
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Trung tâm Học liệu và E-Learning, Trường Đại học Sư phạm – Đại học Đà Nẵng