Chế tạo các hạt Nano vàng 1-5 nm sử dụng chất hoạt động bề mặt Ctab theo phương pháp Micell
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Đỗ, Thị Huế, Trần, Thị Thu Hương |
---|---|
Định dạng: | Bài viết |
Ngôn ngữ: | Vietnamese |
Được phát hành: |
2023
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=306968 https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/133836 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Nghiên cứu ảnh hưởng của khuôn mềm CTAB đến hình dạng hạt nano vàng
Bỡi: Nguyễn, Thị Phương Phong -
Tổng hợp các thanh nano vàng có đỉnh cộng hưởng bề mặt dọc khoảng 1250 nm
Được phát hành: (2024) -
Mầm điều khiển động học quá trình phát triển của hạt nano vàng cầu đường kính lên tới 200nm bằng phương pháp nuôi
Bỡi: Đỗ, Thị Huế, et al.
Được phát hành: (2019) -
Nghiên cứu ảnh hưởng của nồng độ chất hoạt động bề mặt CTAB đến cấu trúc vật liệu nanosilica /
Bỡi: Hoàng Thị Phương. -
Short-drain effect of 5 nm tunnel field-effect transistors
Bỡi: Yu-Hsuan Chen, et al.
Được phát hành: (2024)