CHIẾT LỎNG-LỎNG ZIRCONI(IV) BẰNG TÁC NHÂN AMIN BẬC CAO CTAB/n-HEXAN TỪ MÔI TRƯỜNG AXIT SUNFURIC
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Chu, Mạnh Nhương, Nguyễn, Thị Ánh Tuyết, Nguyễn, Văn Quế |
---|---|
Định dạng: | Bài viết |
Ngôn ngữ: | Vietnamese |
Được phát hành: |
2023
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=301448 https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/139984 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
Những quyển sách tương tự
-
Chiết lỏng-lỏng Zirconi(IV) bằng tác nhân amin bậc cao CTAB/n-Hexan từ môi trường axit sunfuric
Bỡi: Chu, Mạnh Nhương, et al.
Được phát hành: (2023) -
Công nghệ Axit Sunfuric
Bỡi: Đỗ, Bình
Được phát hành: (2004) -
Công nghệ Axit sunfuric
Bỡi: Đỗ, Bình
Được phát hành: (2004) -
Công nghệ axit sunfuric
Bỡi: Đỗ, Bình
Được phát hành: (2011) -
Công nghệ Axit Sunfuric
Bỡi: Đỗ, Bình
Được phát hành: (2004)