Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Lương, Thị Kim Phượng
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:Vietnamese
Được phát hành: 2024
Những chủ đề:
Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên
Truy cập trực tuyến:https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215207
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
id oai:scholar.dlu.edu.vn:DLU123456789-215207
record_format dspace
spelling oai:scholar.dlu.edu.vn:DLU123456789-2152072024-08-07T08:24:40Z Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử Surface cleaning method of silicon substrate at low temperature application for molecular beam epitaxy technique Lương, Thị Kim Phượng Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên 2024-07-12T08:09:42Z 2024-07-12T08:09:42Z 2018 Article https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215207 vi Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên - 2018 - no.9 - tr.57-62 - ISSN.1859-2171 application/pdf
institution Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
collection Thư viện số
language Vietnamese
topic Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên
spellingShingle Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên
Lương, Thị Kim Phượng
Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
format Article
author Lương, Thị Kim Phượng
author_facet Lương, Thị Kim Phượng
author_sort Lương, Thị Kim Phượng
title Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
title_short Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
title_full Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
title_fullStr Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
title_full_unstemmed Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
title_sort phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng epitaxy chùm phân tử
publishDate 2024
url https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/215207
_version_ 1819774154597990400

Những quyển sách tương tự