Analysis of the influence of the address electrode width on high-speed addressing using the VT close curve and dynamic vdata margin /

Đã lưu trong:

Chi tiết về thư mục
Tác giả chính:	Kim, Yongduk.
Tác giả khác:	Park, Sekwang.
Định dạng:	Bài viết
Ngôn ngữ:	English
Những chủ đề:	Address discharge characteristics Address electrode width Plasma display panel VT close curve
Các nhãn:	Thêm thẻ Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt


LEADER	00944nam a2200289 4500
001	DLU090079013
005	##20090619
040	#	#	\|a DLU \|b eng
041	#	#	\|a eng
044	#	#	\|a KR
100	#	#	\|a Kim, Yongduk.
245	#	#	\|a Analysis of the influence of the address electrode width on high-speed addressing using the VT close curve and dynamic vdata margin / \|c Yongduk Kim, Sekwang Park.
653	#	#	\|a Address discharge characteristics
653	#	#	\|a Address electrode width
653	#	#	\|a Plasma display panel
653	#	#	\|a VT close curve
700	#	#	\|a Park, Sekwang.
773	#	#	\|t Electrophysics and Applications \|g Vol. 5-C, no. 5 (2005), p. 183-190
920	#	#	\|a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
994	#	#	\|a DLU
900	#	#	\|a True
911	#	#	\|a Trương Bảo Trâm Anh
925	#	#	\|a G
926	#	#	\|a A
927	#	#	\|a BB
980	#	#	\|a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

Những quyển sách tương tự