Analysis of the influence of the address electrode width on high-speed addressing using the VT close curve and dynamic vdata margin /

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteur principal: Kim, Yongduk.
Autres auteurs: Park, Sekwang.
Format: Article
Langue:English
Sujets:
Tags: Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 00944nam a2200289 4500
001 DLU090079013
005 ##20090619
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a KR 
100 # # |a Kim, Yongduk.  
245 # # |a Analysis of the influence of the address electrode width on high-speed addressing using the VT close curve and dynamic vdata margin /  |c Yongduk Kim, Sekwang Park. 
653 # # |a Address discharge characteristics 
653 # # |a Address electrode width 
653 # # |a Plasma display panel 
653 # # |a VT close curve 
700 # # |a Park, Sekwang.  
773 # # |t Electrophysics and Applications  |g Vol. 5-C, no. 5 (2005), p. 183-190  
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt