Improvement of catalyst durability by deposition of RH on TIO2 in photooxidation of aromatic compounds /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
1. autor: Einaga, Hisahiro.
Kolejni autorzy: Futamura, Shigeru., Ibusuki, Takashi.
Format: Artykuł
Język:English
Hasła przedmiotowe:
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt