Improvement of catalyst durability by deposition of RH on TIO2 in photooxidation of aromatic compounds /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Einaga, Hisahiro.
Tác giả khác: Futamura, Shigeru., Ibusuki, Takashi.
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 01087nam a2200349 4500
001 DLU090094316
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
100 # # |a Einaga, Hisahiro. 
245 # # |a Improvement of catalyst durability by deposition of RH on TIO2 in photooxidation of aromatic compounds /  |c Hisahiro Einaga, Takashi Ibusuki, Shigeru Futamura. 
653 # # |a Aromatic compounds 
653 # # |a Catalyst regeneration 
653 # # |a Durability 
653 # # |a Heat treatment 
653 # # |a Rhodium 
653 # # |a Ultraviolet radiation 
653 # # |a Wet atmosphere 
653 # # |a Zerovalent metal 
700 # # |a Futamura, Shigeru. 
700 # # |a Ibusuki, Takashi. 
773 # # |t Environmental Science & Technology  |g Vol. 38, no. 1 (January 2004), p. 285-289 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt