High-k/metal gate science and technology /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Guha, Supratik.
Tác giả khác: Narayanan, Vijay.
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 00846nam a2200301 4500
001 DLU090097896
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
100 # # |a Guha, Supratik.  
245 # # |a High-k/metal gate science and technology /  |c Supratik Guha, Vijay Narayanan. 
653 # # |a Capping layers 
653 # # |a Hafnium oxide 
653 # # |a Metal gates 
653 # # |a Mobility 
653 # # |a Oxygen vacancies 
700 # # |a Narayanan, Vijay.  
773 # # |t Annual Review of Materials Research  |g Vol. 39 (2009), p. 181-202 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt