Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

Full beskrivning

Sparad:
Bibliografiska uppgifter
Huvudupphovsmän: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
Materialtyp: Conference paper
Språk:Vietnamese
Publicerad: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
Ämnen:
Länkar:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
Taggar: Lägg till en tagg
Inga taggar, Lägg till första taggen!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt