Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

全面介紹

Đã lưu trong:
書目詳細資料
Những tác giả chính: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
格式: Conference paper
語言:Vietnamese
出版: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
主題:
在線閱讀:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
標簽: 添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt