Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

全面介绍

Đã lưu trong:
书目详细资料
Những tác giả chính: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
格式: Conference paper
语言:Vietnamese
出版: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
主题:
在线阅读:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
标签: 添加标签
没有标签, 成为第一个标记此记录!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt