Handbook of Plasma Processing Technology - Fundamentals, Etching, Deposition, and Surface Interactions
This book provides a perspective look at a range of thin film plasma processing technologies.
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Rossnagel, Stephen M., Cuomo, Jenome J., Westwood, William D. |
---|---|
Định dạng: | Sách |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Noyes Publications
2011
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | http://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/25172 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Dry Etching Technology for Semiconductors
Bỡi: Nojiri, Kazuo
Được phát hành: (2016) -
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing :
Bỡi: Mattox, D. M.
Được phát hành: (1998) - Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /
-
Handbook of thin-film deposition processes and techniques :
Được phát hành: (2002) -
Analysis of solution-deposited alkali ions by cluster surface collisions /
Bỡi: Eusepi, F.